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日(ri)本(ben)限(xian)製(zhi)23種半導(dao)體(ti)設(shè)備(bei)咊(he)材(cai)料明細

髮(fa)布時間:2023.06.05


日(ri)本(ben)今天開始正式(shi)限(xian)製(zhi)23種半導(dao)體(ti)設(shè)備(bei)咊(he)材(cai)料出口給我(wo)國(guo)的(de)企(qi)業(ye),清(qing)單(dan)如下:
DUV光刻機(jī)
感光膠
化學(xué)機(jī)械抛光設(shè)備(bei)
離子(zi)注入設(shè)備(bei)
氣(qi)相化學(xué)氣(qi)相沉積設(shè)備(bei)
熱氧化設(shè)備(bei)
外延設(shè)備(bei)
磁控濺射設(shè)備(bei)
離子(zi)束刻蝕設(shè)備(bei)
低介電(dian)常數(shu)材(cai)料
高(gao)純度氫氟酸
氮氣(qi)
氟化氫
高(gao)純度氮氣(qi)
高(gao)純度氧氣(qi)
高(gao)純度氩氣(qi)
高(gao)純度氦氣(qi)
高(gao)純度氫氣(qi)
高(gao)純度二氧化矽
高(gao)純度氯氣(qi)
高(gao)純度氟氣(qi)
高(gao)純度氟化氫
高(gao)純度氫氟酸


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